射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產生自偏壓效應即靶極會自動處于負電位狀態，使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優點可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可-生產
磁控濺射
磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，家具鍍鈦廠家價格，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%，并且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強的大小. 為了---膜層，壓強應盡可能低pr≦(pa)
l表示蒸發源到基片的距離為l(cm)。
c、蒸發速率.蒸發速率小時，沉積的膜料原子(或分子)上---吸附氣體分子，因而形成的膜層結構疏松，顆粒粗大，缺陷多;反之，周口家具鍍鈦廠家，膜層結構均勻致密，機械強度高，家具鍍鈦廠家哪里有，膜層內應力大.
d、基片的溫度.在通常情況下，基片溫度高時，吸附原子的動能隨之增大，家具鍍鈦廠家選，形成的薄膜容易結晶化，并使晶格缺陷減少;基片溫度低時，則沒有足夠大的能量供給吸附原子，因而容易形成無定形態薄膜.
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