用絲網(wǎng)印刷和燒結(jié)等厚膜工藝在同一基片上制作無源網(wǎng)絡(luò)，并在其上組裝分立的半導(dǎo)體器件芯片或單片集成電路或微型元件，再外加封裝而成的混合集成電路。厚膜混合集成電路是一種微型電子功能部件。
1.特點和應(yīng)用
與薄膜混合集成電路相比，厚膜混合集成電路的特點是設(shè)計更為靈活、工藝簡便、成本低廉，-適宜于多品種小批量生產(chǎn)。在電性能上，它-受較高的電壓、的功率和較大的電流。厚膜微波集成電路的工作頻率可以達到 4吉赫以上。它適用于各種電路，-是消費類和工業(yè)類電子產(chǎn)品用的模擬電路。帶厚膜網(wǎng)路的基片作為微型印制線路板已得到廣泛的應(yīng)用。
2.主要工藝
根據(jù)電路圖先劃分若干個功能部件圖，然后用平面布圖方法轉(zhuǎn)化成基片上的平面電路布置圖，再用照相制版方法制作出絲網(wǎng)印刷用的厚膜網(wǎng)路模板。厚膜混合集成電路常用的基片是含量為96％和85％的氧化鋁陶瓷；當(dāng)要求導(dǎo)熱性-好時，則用-陶瓷。基片的厚度為0.25毫米，尺寸為35×35～50×50毫米。在基片上制造厚膜網(wǎng)路的主要工藝是印刷、燒結(jié)和調(diào)阻。常用的印刷方法是絲網(wǎng)印刷。
厚膜電阻片，汽車油量傳感器電阻片，led厚膜電路，臭氧發(fā)生器陶瓷片，電動工具調(diào)速電路，fpc線路板，-電刷片，除靜電高壓電阻，定影器加熱片，節(jié)氣位置傳感器電阻片，電源模塊厚膜電路，電動工具開關(guān)調(diào)速電路，陶瓷線路板，六元合金絲電刷片，陶瓷加熱片，汽車空調(diào)調(diào)節(jié)器電阻片，功能厚膜電路，pcb線路板，五金沖壓電刷片，不銹鋼加熱片，油門踏板傳感器電阻片，射頻天線厚膜電路，機油壓力傳感器厚膜電路，汽車電阻片，機油壓力傳感器厚膜電路，導(dǎo)電塑料電阻片，摩托車油量傳感器電阻片，油量傳感器電阻片，電位器電阻片，碳膜電阻片
絲網(wǎng)印刷的工藝過程是先把絲網(wǎng)固定在印-框架上，再將模版貼在絲網(wǎng)上；或者在絲網(wǎng)上涂感光膠，直接在上面制造模版，然后在網(wǎng)下放上基片，把厚膜漿料倒在絲網(wǎng)上，用刮板把漿料壓入網(wǎng)孔，漏印在基片上，形成所需要的厚膜圖形。常用絲網(wǎng)有不銹鋼網(wǎng)和尼龍網(wǎng)，有時也用聚四氟乙烯網(wǎng)。
傳統(tǒng)的汽車空調(diào)調(diào)節(jié)器采用拉線的方式進行，新一代的空調(diào)調(diào)節(jié)器采用指數(shù)線性的傳感器進行調(diào)節(jié)控制，該產(chǎn)品采用新一代的導(dǎo)電塑料為電阻基體，采用-的電阻印刷技術(shù)得到指數(shù)線性的輸出性能，產(chǎn)品具體圖形如下：
汽車空調(diào)調(diào)節(jié)器
●電阻r的寬度、厚度應(yīng)均勻，使電刷在上面滑動時，所載取的電阻值與角度成指數(shù)線-，線性偏差≤1%。
磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。
種類
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
厚膜電阻片，汽車油量傳感器電阻片，led厚膜電路，臭氧發(fā)生器陶瓷片，電動工具調(diào)速電路，fpc線路板，-電刷片，除靜電高壓電阻，定影器加熱片，節(jié)氣位置傳感器電阻片，電源模塊厚膜電路，電動工具開關(guān)調(diào)速電路，陶瓷線路板，六元合金絲電刷片，陶瓷加熱片，全國5g射頻電阻器，汽車空調(diào)調(diào)節(jié)器電阻片，功能厚膜電路，pcb線路板，五金沖壓電刷片，不銹鋼加熱片，油門踏板傳感器電阻片，射頻天線厚膜電路，機油壓力傳感器厚膜電路，汽車電阻片，機油壓力傳感器厚膜電路，導(dǎo)電塑料電阻片，摩托車油量傳感器電阻片，油量傳感器電阻片，電位器電阻片，碳膜電阻片
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，-地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，厚膜5g射頻電阻器，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，同時濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。
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