微弧氧化的發(fā)展方向
在工業(yè)應(yīng)用的范圍內(nèi)，微弧氧化氧化工藝在下面幾個(gè)方向的發(fā)展是值得關(guān)注的：
標(biāo)準(zhǔn)電解質(zhì)的商業(yè)化及各種型號(hào)與系列電源的深化，微弧氧化電源使用，并且通過復(fù)配電解質(zhì)而擴(kuò)展閥金屬的范圍，微弧氧化電源用途，從而使微弧氧化的應(yīng)用范圍擴(kuò)大；
通過神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)及相應(yīng)的控制模型對(duì)微弧氧化工藝進(jìn)行優(yōu)化，工藝的改進(jìn)比如鼓入氣泡以及超聲波震動(dòng)；
微弧氧化與其它技術(shù)的復(fù)合應(yīng)用。微弧氧化電源
微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？
一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有-的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜�，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧---，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到hv3000。但是通常單純考慮這種---性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對(duì)膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有-性能。如，某鎂合金需要耐蝕，微弧氧化電源效率，可以根據(jù)需求對(duì)膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。
微弧氧化
采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，具有工藝過程簡(jiǎn)單，占地面積小，微弧氧化電源，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)-，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高，因而對(duì)環(huán)境污染小，滿足優(yōu) 質(zhì)清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國(guó)可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強(qiáng)cass鹽霧試驗(yàn)>;480h，絕緣性好膜阻>;100mω，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有-的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng)，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對(duì)同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化
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