公司產品包括石英掩膜版，大面積蘇打鉻板，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務！
掩膜mask就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統計數據早已制成光刻版，在單片機設計生產制造的全過程中把程序流程做進來。優勢是：程序流程-、低成本。缺陷：大批量規定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產制造，交貨期長。
公司產品包括石英掩膜版，鉻板，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務！
光掩膜除開運用于集成ic生產制造外，高精石英鉻板，還普遍的運用與像lcd，pcb等層面。普遍的光掩膜的類型有幾種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液-凸版。關鍵分2個構成，基鋼板和不透原材料。基鋼板一般 是高純，普通蘇打鉻板，低透射率，低線膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透層是根據濺射的方式鍍在夾層玻璃正下方厚約0.1um的鉻層。鉻的強度比夾層玻璃略小，雖不容易損傷但是將會被夾層玻璃所損害。運用于集成ic生產制造的光掩膜為高敏感性的鉻版。
什么叫光刻掩模版在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構造，稱之為光刻掩模板。半導體材料集成電路芯片制做全過程一般 必須歷經數次光刻工藝，在半導體材料結晶表層的物質層上開掘各種各樣夾雜對話框、電級觸碰孔或在導電性層上刻蝕金屬材料互聯圖型。光刻工藝必須整套幾片多至十幾元相互之間能精i確套準的、具備特殊圖形的光打印掩蔽模板。
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