半導體廢氣處理設備
廢氣介紹：由于半導體工藝對操作室清潔度要求-，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發為主。這些廢氣主要可以分為四類：酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣和有毒廢氣。
廢氣危害：半導體制造工藝中產生的廢氣如果沒有經過-的處理進行排放，將造成-的問題，不僅影響人們的-，惡化-環境，化工煙氣處理設備怎么賣，造成環境污染的公害事件等，化工煙氣處理設備規格，也會成為半導體制造中amc污染的重要來源。
廢氣處理設備處理方法：依據這些廢氣的特性，在處理上采用水洗、氧化/燃燒、吸附、解離、冷凝等方法，針對不同污染物，可采取以下綜合處理方法：1.一般排氣系統 2.酸性、堿性廢氣處理系統 3.有機廢氣處理系統。
廢氣處理設備
有機廢氣
有機廢氣的危害：在生產中，有機廢氣的排放一直是一個很-的問題，絕大多數有機廢氣對人體的健康都有害。如有機廢氣通過呼吸道和皮膚進入人體后，能給人的呼吸、-等系統造成暫時性和長久的病變，尤其是-并芘類多環芳烴能使人體直接致病，南寧化工煙氣處理設備，危害人體健康。
有機廢氣還會造成-的-污染。一些有機物進入-后，在一定條件下形成光化學煙霧，造成二次污染；一些有機物進入平流層后，在紫外線的照射下與臭氧發生光化學反應，造成臭氧層空洞；一些有機物具有惡臭污染和有害氣體的兩重性；還有一些有機物會引起溫室效應。
有機廢氣處理設備
本產品利用特殊的高能高臭氧uv紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨，化工煙氣處理設備原理，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如co2、h2o等。
利用高能高臭氧uv紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。
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