真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜辦法而發展起來的一種新型鍍膜技能，一般稱為干式鍍膜技能。
真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物理氣相堆積pvd技能和化學氣相堆積cvd技能。
物理氣相堆積技能是指在真空條件下，使用各種物理辦法，工藝品漸變加工價格，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，貴州工藝品漸變加工，直接堆積到基體外表上的辦法。制備硬質反應膜大多以物理氣相堆積辦法制得，它使用某種物理進程，如物質的熱蒸騰，或受到離子轟擊時物質外表原子的濺射等現象，完成物質原子從源物質到薄膜的可控搬運進程。
光學鍍膜理論
鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，工藝品漸變加工定制，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束為反相位(180°位移)時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。
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簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定見光在分界面上的折射和反射。
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