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溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響
1、微弧氧化溶液溫度低時，微弧氧化技術，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過低時，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。
2、微弧氧化溶液溫度過高時，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強，致使膜厚與硬度-下降，表面微弧氧化技術，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。
3、溶液酸堿度：酸堿度過大或過小，溶解速度都加快，氧化膜生長速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。
4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源
微弧氧化是比較沒有污染的。陽極氧化工藝中所產生的污染物較多，在倡導的大環境下企業又要-自身成本，由此陽極氧化的處境可謂是岌岌可危！對比陽極氧化，微弧氧化主要不足在于顏色系列較少，但其增加了電泳涂裝工藝后的微弧復合處理工藝mcc，可以-地-顏色單一的問題。微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化電源
微弧氧化處理是一種在有色金屬表面原位生長氧化物陶瓷的新技術，微弧氧化技術設備，具有與基體金屬結合力強、硬度高、耐腐蝕、耐磨損、耐熱沖擊等優點，是非常有前途的輕合金表面處理方法。在鎂合金工程應用中，主要從提高鎂合金純度或研究新合金、表面處理或涂層、采用快速凝固工藝和表面改性等4個方面進行腐蝕防護。其中，微弧氧化表面處理形成保護膜是提高mg及鎂合金材料抗蝕性非常重要有效的方法。
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