微弧氧化電源-日照微弧氧化工藝-微弧氧化電源參數

鎂合金表面處理形成保護膜是提高mg及鎂合金材料抗蝕性非常重要、非常有效的方法。近十幾年來，研發出了多種有效的表面處理工藝技術，微弧氧化電源，大大擴展了鎂合金材料的應用范圍。鎂合金微弧氧化表面處理即是在鋁合金微弧氧化和普通陽極氧化的基礎上開發的一種新技術。

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微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？

一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有-的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧-，鋁表面氧化膜硬度高可以達到hv3000。但是通常單純考慮這種-性能并不可取，實驗室用微弧氧化電源，如單純提高膜層的硬度，銷售微弧氧化電源，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。

因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有-性能。如，微弧氧化電源參數，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。