公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務！
光刻是生產制造集成電路工藝和集成電路芯片微圖型構造的重要加工工藝。其加工工藝品質立即危害著元器件產出率、性、元器件特性及其使用期等主要參數指標值。光罩是光刻工藝中的1個關鍵步驟，光刻版務必十分清潔，全部硅片上的電源電路元器件都來源于板圖。假如光刻版不清潔，存有環境污染顆粒物，這種顆粒物就會被復i制到硅片表層的光刻膠上，導致元器件特性的降低。殊不知，光刻版在應用全過程中難以避免的會沾到塵土、光刻膠等空氣污染物，掩膜版，這種空氣污染物的存有立即危害到光刻的實際效果。為了-光刻版清潔，務必按時對光刻版開展清理，而清理的實際效果與清理加工工藝及其各清理加工工藝在機器設備上的合理流動擁有緊密的聯絡。
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菲林在使用中需注意的事項
菲林密度分高密和低密兩種。低密是指膠片沖洗后完全未曝
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光罩英文：reticle， mask，在制作ic的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型復
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