真空鍍膜是應用物理分析化學方法,在固體表面涂上特征的表面涂層,使固體表-有耐磨性、耐高溫性、耐腐蝕性、耐氧化性、電磁波輻射性、導電性、吸磁性、電纜護套和設計裝飾性等優于固體原料本身的優點,提高產品、提高產品使用期限、節約能源、獲得顯著性經濟效益。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜表面的清洗非常重要,直接影響電鍍產品的。
真空鍍膜技術主要應用于哪些領域呢?
1.在裝飾品方面
2.在模具等金屬切削加工工具方面
3.在平板顯示器中
鍍膜工作原理主要包括電化學反應和物理沉積兩種方式:
電化學反應鍍膜:利用電解質溶液中的電解質和金屬離子之間的電化學反應,在物體表面形成金屬薄膜。涉及陽極、陰極和電解質溶液三個主要組件。
物理沉積鍍膜:利用物理方法將金屬蒸發或濺射到物體表面,形成金屬薄膜。涉及源和底物兩個主要組件。
電化學反應鍍膜:利用電解質溶液中的電解質和金屬離子之間的電化學反應,在物體表面形成金屬薄膜。涉及陽極、陰極和電解質溶液三個主要組件。
物理沉積鍍膜:利用物理方法將金屬蒸發或濺射到物體表面,形成金屬薄膜。涉及源和底物兩個主要組件。