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硅結構測試在硅結構測試中沉積保形的ald薄膜堆層
在離子束濺射 (ibs) 過程中，利用高能電場加速離子束圖 5。這一加速度會給離子提供-的動能 (~10-100 ev)。當源材料受到沖擊時，源材料離子從目標“濺射”，并在與光學表面接觸后形成致密膜。以其精度和可重復性-，鳳崗手機殼電鍍加工，是激光光學鍍膜的鍍膜沉積技術。ibs的缺點是，成本比其他技術更高，手機殼電鍍加工加工，因為在光元件中產生了更長的周期時間和應力，這可能導致變形和光學畸變。
離子鍍 蒸發物資的份子被電子碰撞電離后以離子堆積在固體外面，稱為離子鍍。這類技巧是d.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技巧的聯合。一種離子鍍體系如圖4[離子鍍體系示意圖]，將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體如以發生輝光放電。從蒸發祥蒸發的份子經由過程等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加快打到基片外面。未電離的中性原子約占蒸發料的95％也堆積在基片或真空室壁外面。
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