光刻膠國際化發展
業內人士認為，pr1 2000a1光刻膠公司，按照現在“單打獨斗”的研發路徑，肯定不行。相關部門要加大產業政策的配套支持力度，應從加快完善整個產業鏈出發，定向梳理國內缺失的、產業依賴度高的關鍵電子化學品，要針對電子化學品開發難度高，pr1 2000a1光刻膠，檢測設備要求高的特點，組織匯聚一些優勢企業和，形成一個產業聯盟，建立一個生產應用平臺，集中力量突破一些關鍵技術。
江蘇博硯電子科技有限公司董事長宗健表示，光刻膠要真正實現國產化，難度很大。問題是國內缺乏生產光刻膠所需的原材料，致使現開發的產品碳分散工藝不成熟、碳漿材料不配套。而作為生產光刻膠重要的色漿，至今依賴日本。前道工藝出了問題，-不了科研與生產，光刻膠國產化就無期。因此，必須通過科研單位、生產企業的協同-，盡快取得突破。
有提出，盡管國產光刻膠在面板一時用不起來，但還是要從政策上鼓勵國內普通面板的生產企業盡快用起來。只有在應用過程中才能發現問題，解決問題，不斷提升技術、工藝與產品水平，實現我國關鍵電子化學品材料的國產化，完善我國集成電路的產業鏈，滿足和重點產業的需求。
市場規模
中國半導體產業穩定增長，半導體產業向中國轉移。據wsts和sia統計數據，2016年中國半導體市場規模為1659.0億美元，增速達9.2%，大于增長速度1.1%。2016年中國半導體制造用光刻膠市場規模為19.55億元，其配套材料市場規模為20.24億元。預計2017和2018年半導體制造用光刻膠市場規模將分別達到19.76億元和2-億元，其配套材料市場規模將分別達到22.64億元和29.36億元。在28nm生產線產能尚未得到釋放之前，arf光刻膠仍是市場主流半導體應用廣泛，需求增長持續性強。近些年來，半導體廠商在中國-投設多家工廠，如臺積電南京廠、聯電廈門廠、英特爾大連廠、三星電子西安廠、力晶合肥廠等。諸多半導體工廠的設立，也拉動了國內半導體光刻膠市場需求增長。
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