一、是在恒溫箱中烘干網(wǎng)版的時間太長或烘干的溫度太高，兩者都可使涂布感光膠的網(wǎng)版在沒有-之前就產(chǎn)生“熱敏化”，如果再-就產(chǎn)生過量-，鋁板蝕刻機(jī)加盟，因此，圖像難以顯透了。 二、在涂布感光膠時，鋁板蝕刻機(jī)設(shè)備，由于涂布的次數(shù)較多，涂布時又不注意避光操作造成多次-，泰安鋁板蝕刻機(jī)，再-時就難以顯透圖像。 三、曬版光源強(qiáng)度太大，曬版時間太長造成-過度，造成顯影困難。有時圖像反差太小，-時就會產(chǎn)生-過度，造成顯影困難。
藥性減低的原因及還原方式
隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行，蝕刻液藥性降低，是因為-化鐵氧化成了氯化亞鐵，此時需要將氯化亞鐵還原成-化鐵增加藥液酸性。需加入水溶液(還原劑)﹑-()
2.還原反應(yīng)：2fecl2+naclo+2hcl﹦2fecl3+nacl+h2o
氯化亞鐵++-=-化鐵+-+水(由于亞鐵離子在水中極易水解而產(chǎn)生氫氧化亞鐵：fecl2+h2o=，fe(oh)2+hcl所以為了防止氯化亞鐵水解變質(zhì)，常在氯化亞鐵溶液中添加一些-.)
3.由于-容易揮發(fā)，隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行，還會發(fā)生以下反應(yīng)：
6fecl2+naclo+3h2o=4fecl3+2fe(oh)3 ↓+nacl
氯化亞鐵++水=-化鐵+氫氧化鐵(沉淀物)+-
(其中氫氧化鐵為沉淀物，所以隨著化學(xué)反應(yīng)時間的加長，鋁板蝕刻機(jī)技術(shù)，藥箱內(nèi)會出現(xiàn)粘稠狀物質(zhì)。除去該粘稠狀沉淀物，需采用物理過濾方式，如：過濾網(wǎng)過濾或凈水裝置)
腐蝕機(jī)，主要用于電路板精密線路蝕刻；也可用于硬板、軟板、軟硬結(jié)合板、smt模板、微波混合電路、殼體的蝕刻加工。 電路板濕處理設(shè)備，含分藥液加工單元和水洗兩個單元，中間和尾端有風(fēng)干裝置。用向移動的工件噴射藥液的方式，對工件進(jìn)行顯影、蝕刻、去膜、水洗加工，是由液體噴射系統(tǒng)和工件移動運動系統(tǒng)組成的。 所用液體為蝕刻劑時，蝕刻劑與電路板上的抗蝕劑不發(fā)生作用，只與未被抗蝕劑保護(hù)的在外的銅箔反應(yīng)，使銅元素較終以化合物的形式溶解到蝕刻劑中，被從電路板基材上去除，從而實現(xiàn)對電路板選擇性的蝕刻加工。
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