鍍鉻加工廠怎樣使用添加劑？
鍍鉻加工廠能使用的添加劑一般有光亮劑、走位劑、柔軟劑、抗劑、沙面劑等，添加劑的用量非常少，每升鍍液中只需加入幾毫升，現(xiàn)在更有只加零點幾毫升，只要加入就有明顯的作用，所以為了---鍍鉻效果需要使用添加劑，接下來通過實例給大家講解一下添加劑的---1效果：
1、比如鍍鉻加工廠里用---銅和---配成鍍銅液，只要使用光亮劑，鍍出的鍍層就呈現(xiàn)出光亮細致的亮紫銅色。
2、針對鍍鎳的脆性問題，如果不加入柔軟劑，鍍出的鍍層會有內(nèi)應(yīng)力而發(fā)脆，有時會因太脆而開裂，但加入柔軟劑后，水電鍍加工，就可以使內(nèi)應(yīng)力---減小，真空電鍍加工廠家，甚至出現(xiàn)零應(yīng)力狀態(tài)，添加量很小零點幾至幾毫升。
所有鍍鉻加工廠使用的電鍍添加劑都是在電極表面的微區(qū)域內(nèi)起作用的，這些微少量的添加劑之所以能起大的作用，主要是因為這些添加劑是在陰極區(qū)間的表面雙電層內(nèi)起作用的，有著類似表面活性劑的性質(zhì)，只要單分子膜級別的添加劑進入雙電層并-金屬離子在陰極還原的過程，就會使鍍層的結(jié)晶發(fā)生改變，達到我們想要的效果。
什么是光學鍍膜
對于co2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有---釔、---鐠、鍺等；對于yag激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有---鋅、---鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另---長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。
鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，電鍍白鋅，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。
無論是對于co2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、shen化jia、---作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于yag激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應(yīng)用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。
電鍍添加劑的作用機理和控制機理
電鍍添加劑包括無機添加劑(如鍍銅用的鎘鹽)和有機添加劑(如鍍鎳用的---等)兩大類。按功能分類，電鍍添加劑可分為光亮劑、整平劑、應(yīng)力消除劑和潤濕劑等。不同功能的添加劑一般具有不同的結(jié)構(gòu)特點和作用機理，但多功能的添加劑也較常見，例如糖精既可作為鍍鎳光亮劑，又是常用的應(yīng)力消除劑;并且不同功能的添加劑也有可能遵循同一作用機理。
電鍍添加劑的作用機理
金屬的電沉積過程是分步進行的:首先是電活性物質(zhì)粒子遷移至陰極附近的外赫姆霍茲層，進行電吸附，然后，陰極電荷傳遞至電極上吸附的部分去溶劑化離子或簡單離子，形成吸附原子，淮安電鍍，后，吸附原子在電極表面上遷移，直到并入晶格。
非擴散控制機理
根據(jù)電鍍中占統(tǒng)治---的非擴散因素，可將添加劑的非擴散控制機理分為電吸附機理、絡(luò)合物生成機理(包括離子橋機理)、離子對機理、改變赫姆霍茲電位機理、改變電極表面張力機理等多種。
擴散控制機理
在大多數(shù)情況下，添加劑向陰極的擴散(而不是金屬離子的擴散)決定著金屬的電沉積速率。這是因為金屬離子的濃度一般為添加劑濃度的100～105倍，對金屬離子而言，電極反應(yīng)的電流密度遠遠低于其---電流密度。寧波電鍍廠控制添加劑擴散，大多數(shù)添加劑粒子擴散并吸附在電極表面張力較大的凸突處及特殊的晶面上，致使電極表面吸附原子遷移到電極表面凹陷處并進入晶格，從而起到整平光亮作用。
登錄后臺
