真空電鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬，通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2pa，對于蒸發源與被鍍制品和薄膜要求---的場合，uv真空電鍍，則要求壓力---( 10-5pa )。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。uv真空電鍍
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