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產(chǎn)品用途:
產(chǎn)品性:
pecvd系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成:
pecvd系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)可選配中真空或高真空
產(chǎn)品特點:
生長溫度低;沉積速率快;成膜---,適用范圍廣,設(shè)備簡單。
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