伯東企業(yè)上海有限公司為您提供伯東 kri霍爾離子源在樣品清洗前處理中的應(yīng)用。在進(jìn)行鍍膜等工藝之前, 對(duì)原樣品的表面平整度/潔凈程度等參數(shù)會(huì)有不同的要求. 對(duì)于不達(dá)標(biāo)的樣品需要進(jìn)行前處理, kri霍爾離子源可以---的解決這類(lèi)的問(wèn)題.
kri霍爾離子源可以在低功耗的情況下進(jìn)行大電流的工作, ---的處理樣品的清潔度/和平整度; 可以根據(jù)不同的工藝要求來(lái)控制樣品表面的光滑/粗糙程度; 一致且---地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 達(dá)到清洗前處理的作用.
穩(wěn)定工藝并提高產(chǎn)品產(chǎn)量. kri離子源清洗在在真空室中進(jìn)行, 基板表面清潔后可以立即沉積, 短停留時(shí)間暴露于真空背景清潔并活化基材表面比輝光放電更清潔, 生產(chǎn)率更高; 無(wú)需基板偏置/無(wú)需高壓, 消除了大多數(shù)腔室壁的濺射, 沒(méi)有額外的抽空, ---地提高了整體工藝的效率與.
---沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司客戶(hù)選用kri eh1000型霍爾離子源組裝磁控濺射設(shè)備對(duì)聚氨酯類(lèi)的材料進(jìn)行清洗前處理.
離子源清洗樣品的示意圖：
kri 霍爾離子源 eh 1000 特性:
即插即用備用陽(yáng)極
高離子輔助鍍膜 iad 效率
無(wú)需水冷
sidewinder
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