伯東KRI無柵霍爾離子源EH 3000輔助鍍制高光學薄膜

伯東企業上海有限公司為您提供伯東kri無柵霍爾離子源eh 3000輔助鍍制高光學薄膜。某大型工業薄膜制造商采用伯東 kri 無柵霍爾離子源 eh 3000 輔助熱蒸發技術鍍制高光學薄膜, 以獲得-的機械性能和光學特性的薄膜, 同時獲得與基體牢固結合和優良性能的高薄膜.
其工作系統如下圖：
kri 霍爾離子源 gridless eh 3000適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eh 3000 是目前市場上---效, 提供---離子束流的離子源.
kri 霍爾離子源 gridless eh 3000 技術參數:
portant;"> 離子源型號
portant;"> 霍爾離子源
eh3000
eh3000lo
eh3000mo
portant;"> cathode/neutralizer
portant;"> hc
portant;"> 電壓
portant;"> 50-250v
50-300v
50-250v
portant;"> 電流
portant;"> 20a
10a
15a
portant;"> 散射角度
portant;"> >45
portant;"> 可充氣體
portant;"> ar, o2, n2, h2, organic precursors, others
portant;"> 氣體流量
portant;"> 5-100sccm
portant;"> 高度
portant;"> 6.0“
portant;"> 直徑
portant;"> 9.7“
portant;"> 水冷
portant;"> 可選
f = filament; hc = hollow cathode; xo2 = optimized for o2 current
該制造商的離子源輔助鍍膜系統由霍爾離子源, 電源及控制系統和流量計 3 部分組成, 如下圖：
其中霍爾離子源發射離子, 流量計向離子源提供氣體并-氣流穩定, 電源及控制系統向離子源供電并-放電參數放電電壓及電流穩定.
kri 霍爾離子源 gridless eh 3000 運行結果：
1. 適用工業規模生產
2. 獲得-的機械性能和光學特性的薄膜
3. 獲得與基體牢固結合和優良性能的高薄膜
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