伯東企業(yè)上海有限公司為您提供hakuto 離子蝕刻機 10ibe 用于制作-羅蘭光柵。長春某研究所在制作---羅蘭光柵的研究中采用伯東 hakuto 離子蝕刻機 10ibe,制造出的---羅蘭光柵比其他工藝制造的光柵產(chǎn)品整體衍射---25%, 實現(xiàn)高衍射效率---羅蘭光柵制作, 且工藝可控、穩(wěn)定, 所制作的---羅蘭光柵衍射---于市場同類產(chǎn)品.
hakuto 離子蝕刻機 10ibe 技術(shù)參數(shù):
portant;"> 基板尺寸
portant;"> < ф8 x 1wfr
portant;"> 樣品臺
portant;"> 直接冷卻水冷0-90 度旋轉(zhuǎn)
portant;"> 離子源
portant;"> 16cm 考夫曼離子源
portant;"> 均勻性
portant;"> ±5% for 4”ф
portant;"> 硅片刻蝕率
portant;"> 20 nm/min
portant;"> 溫度
portant;"> <100
hakuto 離子刻蝕機 10ibe 離子源是配伯東公司代理美---夫曼博士創(chuàng)立的 kri考夫曼公司的考夫曼離子源 kdc 160
伯東 kri 考夫曼離子源 kdc160 技術(shù)參數(shù)：
portant;"> 離子源型號
portant;"> 離子源 kdc 160
portant;"> discharge
portant;"> dc 熱離子
portant;"> 離子束流
portant;"> >650 ma
portant;"> 離子動能
portant;"> 100-1200 v
portant;"> 柵極直徑
portant;"> 16 cm φ
portant;"> 離子束
portant;"> ---, 平行, 散射
portant;"> 流量
portant;"> 2-30 sccm
portant;"> 通氣
portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
portant;"> 典型壓力
portant;"> < 0.5m torr
portant;"> 中和器
portant;"> 燈絲
hakuto 離子刻蝕機 10ibe 真空腔采用 pfeiffer 渦輪分子泵 hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, ---的保持真空腔的真空度.
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