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一、產品介紹
光催化氧化是指在一定波長光照條件下,半導體材料發生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機物大分子降解為---或其他小分子有機物以及水,在反應過程中這種半導體材料也就是光催化劑本身不發生變化。 hjuv---系列tio2光解催化氧化設備是我公司根據---廢氣處理設備的---技術并在我公司多年生產光解催化氧化設備的基礎上，改進的新一代tio2光解催化氧化設備， 本產品利用uv紫外線技術(波段184.9nm-253.7nm)，產生臭氧，游離活性氧離子。通過高能紫外線光破壞降解分子鍵及協同分解氧化反應去除有機污染物。
再通過裂解產生的臭氧將其氧化成簡單、無害、穩定的物質，如h2o和co2等。
二、工作原理及流程
如上圖所示，從工藝端抽出的惡臭氣體或有機廢氣經收集管道進入光催化設備，利用紫外光燈管照射在蜂窩光觸媒上，利用紫外光線與蜂窩上的tio2反應，產生的臭氧，利用臭氧的強氧化性快速氧化進預處理的小分子有機廢氣，將有機廢氣---氧化成---和水，廢氣通過管道達標高空排放，達到------標準《---污染物綜合排放標準》gb16297-1996和《惡臭污染物排放標準》gb14554-1993、及地方標準。
三、產品性能綜述：
一、------臭：能---去除揮發性有機物(voc)、無機物、、氨氣、---類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果---超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準(gb14554-93).
二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。
三、適應性強：可適應高濃度，---量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定---。
四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，只需電費，沒有其他耗材。
五、無需預處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在攝氏-30℃-95℃之間，濕度在40%-98%之間均可正常工作。
六、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。
七、---進口材料制造：防火、防腐蝕---，性能穩定，使用---。
八、通過---及我公司工程---長期反復的試驗，開發研制出的，具有完全自主---的凈化產品，可分解惡臭氣體中有毒---，并能達到脫臭效果，經分解后的惡臭氣體，可達到無害化排放，不產生二次污染，同時達到---消---菌的作用。
四、廊坊uv光解氧化催化設備 噴漆廢氣處理設備廠家適用范圍：
煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
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