無錫宜興市前錦爐業(yè)設(shè)備有限責(zé)任公司為您提供鎳鈷鋁nca高鎳三元材料氧氣爐 陶瓷烤花爐品牌。爐體結(jié)構(gòu)
爐襯結(jié)構(gòu) 連續(xù)生產(chǎn)工藝下制備材料時(shí)，優(yōu)良的熱場是除氣氛外的另一個(gè)---條件。為使熱場均勻，加熱元件的布置方式非常重要，輻射形成的熱場應(yīng)在確定范圍的不同位置上，其偏差在額定的指標(biāo)內(nèi)。
根據(jù)上述工藝要求，設(shè)計(jì)一種用于材料連續(xù)式制備工藝的輻射式加熱結(jié)構(gòu)：加熱元件在獨(dú)立腔體內(nèi)與合成室隔離，通過流量控制閥調(diào)節(jié)氣體流量，使加熱元件腔體相對(duì)合成室維持微正壓，因此合成室內(nèi)的氣體就很難進(jìn)入加熱元件腔體，從而達(dá)到加熱元件的長壽命化；同時(shí)，均熱隔離板的存在，使加熱元件與制品之間保持合理距離，避免了局部高溫，有利于合成室的溫度均勻恒定。該結(jié)構(gòu)一方面---加熱元件較長的工作壽命；另一方面又能滿足輻射熱的較好傳遞并獲得均勻的熱場。
爐膛材料：頂磚均采用剛玉莫來石材質(zhì)氧化鋁含量***80%，爐膛保溫材料采用莫來石聚輕磚tjm26以及日本阿爾賽陶瓷纖維板砌筑。防腐蝕，隔熱------，熱容量小，節(jié)能。
滑道采用99剛玉瓷導(dǎo)軌材質(zhì)氧化鋁含量***99.5%，結(jié)構(gòu)采用異型耐火磚支撐五點(diǎn)滑軌結(jié)構(gòu)，提高傳熱---、降低推板和導(dǎo)軌的摩擦以及有效降低能耗。
密封結(jié)構(gòu)
爐體密封 本設(shè)備為滿足直通式的窯腔通道內(nèi)氧分壓要求，將采用全密封爐體、氣氛隔離倉前后各1個(gè)與氣幕相結(jié)合的方式進(jìn)行密封。
為了---設(shè)備內(nèi)穩(wěn)定的氧分壓和氣流走向，設(shè)備除爐體采用全密封結(jié)構(gòu)外，在制品出、入口處還將設(shè)置相互聯(lián)鎖的雙閘門過渡密封倉結(jié)構(gòu)。同時(shí)設(shè)置大流量惰性氣體垂直氣幕封門，使空氣不能進(jìn)入爐體內(nèi)。當(dāng)密封倉內(nèi)的產(chǎn)品出來后，兩閘門都緊閉時(shí)，對(duì)密封倉進(jìn)行強(qiáng)制性清洗換氣，并在內(nèi)閘門再次打開之前，將倉內(nèi)氧分壓從21%降低到50ppm以下。嚴(yán)格---在密封倉清洗換氣之后，內(nèi)閘門打開之前，密封倉內(nèi)部的惰性氣體壓力和氧分壓等同于爐體與密封倉相接處的壓力和氧分壓值。運(yùn)行過程中，爐體出、入口處的氣幕將始終保持，從而阻止外界氣流對(duì)合成區(qū)域的干擾，在---爐內(nèi)氣氛滿足工藝要求的前提下盡可能降低保護(hù)氣體的消耗。
⑵ ---氣氛的穩(wěn)定、均勻
對(duì)制備設(shè)備而言，在爐體內(nèi)部砌有爐襯，合成室內(nèi)裝有窯具及制品，由于各處流體阻力不同，在爐襯的各個(gè)縫隙及制品堆垛之間的阻力相差很大。應(yīng)采用多點(diǎn)層流凈化結(jié)構(gòu)。工藝氣體由爐底多點(diǎn)均勻進(jìn)入，從爐頂排出。高純氮?dú)庥蔂t底進(jìn)入合成室，由下向上以一定的推力將空氣從爐頂出口管排擠出去，直到---合成室內(nèi)全部充滿高純氮?dú)猓⒂懈呒兊獨(dú)鈴某隹诠芤莩觥＿@樣，既可---合成室內(nèi)氣氛潔凈，所消耗的氣量又是少。
沿設(shè)備長度方向，設(shè)置保護(hù)氣體總輸入管，在各區(qū)段的分支，經(jīng)過調(diào)節(jié)閥的---調(diào)節(jié)和流量計(jì)的流量監(jiān)測(cè)，向加熱室輸入所需要的高純氮?dú)猓⒔?jīng)過加熱組預(yù)熱后進(jìn)入合成區(qū)段。同時(shí)，在設(shè)備各控制段都設(shè)置氧分壓和壓力抽樣檢測(cè)點(diǎn)，---檢測(cè)窯腔橫截面上各點(diǎn)的氧分壓和氣氛壓力。窯體進(jìn)氣全部采用下部進(jìn)氣，廢物排放區(qū)上部排氣方式：保護(hù)氣體進(jìn)入窯內(nèi)后，---入下加熱室，經(jīng)加熱室預(yù)熱以后分多點(diǎn)層流式進(jìn)入爐膛。
⑶ 爐內(nèi)的氣氛清洗
為了達(dá)到合成室內(nèi)的氧含量要求，除了設(shè)備嚴(yán)格密封外，加熱室空腔及耐火保溫材料釋放的氣體應(yīng)采用---的爐內(nèi)氣氛清洗技術(shù)：下加熱室逐個(gè)清洗；上加熱室由一路保護(hù)其余各加熱室。另外，制備設(shè)備頂部、加熱室等處都預(yù)留放氣閥，當(dāng)制備設(shè)備初次啟用并充入保護(hù)氣體時(shí)，以較大的壓力通以較大流量的保護(hù)氣體，同時(shí)打開設(shè)備各頂蓋板、加熱室蓋板上的放氣閥，以排除窯內(nèi)襯所吸收的氧氣，---恒溫區(qū)氧含量為10ppm。
整個(gè)設(shè)備配置一臺(tái)電化學(xué)式氧含量分析儀，用來檢測(cè)爐內(nèi)氧含量。
備注：本文僅供參考，根據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)制造，更多規(guī)格、參數(shù)以及詳細(xì)技術(shù)方案可來電索取。
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