二氧化硅靶材SIO2磁控濺射靶材

北京京邁研材料科技有限公司為您提供二氧化硅靶材sio2磁控濺射靶材�？蒲袑嶒�-二氧化硅靶材sio2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料
產品介紹
二氧化硅sio2常溫下為固體，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反應，能和熔融堿類起作用。自然界中存在有結晶二氧化硅和無定形二氧化硅兩種。結晶二氧化硅因晶體結構不同，分為石英、鱗石英和方石英三種。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。
產品參數
中文名 二氧化硅 化學式 sio 分子量 60.084
密度 2.2 g/cm3 熔點 1650±50℃ 沸點 2230℃
純度 99.99%
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例重量比或原子比、規格，我們會盡快為您報價！！
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊�，-，售后-！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法gdms或icp光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量-材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。
加工流程：熔煉***提純***鍛造***機加工***檢測***包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們-建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3w/cm2。

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